[发明专利]金属镜面LOGO制作工艺在审

专利信息
申请号: 201711287936.7 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN108130578A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 桑亮亮 申请(专利权)人: 研精舍(上海)精密机械加工有限公司
主分类号: C25D11/12 分类号: C25D11/12;C25D11/16;C25D5/02;C25D7/08
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 曹文衔
地址: 201401 上海市闵行区工业*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种金属镜面LOGO制作工艺,包括抛光产品表面、第一次阳极氧化形成氧化膜、遮蔽保护、激光打标、脱模、喷砂打磨、化抛和第二次阳极氧化形成氧化膜。本发明采用激光技术,LOGO的字体边缘整齐,无危害物质,生产效率快。
搜索关键词: 金属镜面 阳极氧化 制作工艺 氧化膜 激光打标 激光技术 抛光产品 生产效率 遮蔽保护 喷砂 脱模 打磨 字体 整齐
【主权项】:
一种金属镜面LOGO制作工艺,其特征在于,包括以下步骤:S1、抛光,使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理,最终达到的光泽度为800~1000GU;S2、第一次阳极氧化,将金属产品放入电解液中进行电解,电解时间为900~1000秒,阳极膜厚3~4微米,电解后进行水洗;S3、遮蔽,将稀释剂和油墨按照13/100~15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂,搅拌后涂抹在金属产品表面,静置15‑30min;S4、激光打标,使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型,形成LOGO;S5、脱模,使用碱液对金属产品清洗;S6、喷砂,对金属产品进行喷砂;S7、化抛,抛光时间为60~70秒;S8、第二次阳极氧化,将金属产品放入电解液中进行电解,电解时间为900~1000秒,阳极膜厚8~12微米,电解后进行水洗。
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