[发明专利]金属镜面LOGO制作工艺

说明书

本发明提供一种金属镜面LOGO制作工艺，包括抛光产品表面、第一次阳极氧化形成氧化膜、遮蔽保护、激光打标、脱模、喷砂打磨、化抛和第二次阳极氧化形成氧化膜。本发明采用激光技术，LOGO的字体边缘整齐，无危害物质，生产效率快。

技术领域

本发明涉及镜面标识的制作，尤其涉及一种金属镜面LOGO的制作工艺。

背景技术

金属镜面标识即镜面LOGO，是在金属表面进行加工形成预设图形的一种现代化工艺产物。目前的金属镜面标识普遍采用曝光显影制作完成，经过药水蚀刻来完成LOGO制作，制作的LOGO有以下不足之处：

1、字体边缘不齐，有锯齿状；

2、药水蚀刻是有毒，腐蚀性的，容易造成环境污染；

3、生产周期较长。

为了解决现有技术中存在的不足，需要对金属镜面LOGO的制作工艺进行改进。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于提供一种LOGO清晰，制造过程无污染的金属镜面LOGO制作工艺，以克服现有技术上的缺陷。

为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种金属镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：

S1、抛光，使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理，最终达到的光泽度为800～1000GU；

S2、第一次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚3～4微米，电解后进行水洗；

S3、遮蔽，将稀释剂和油墨按照13/100～15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂，搅拌后涂抹在金属产品表面，静置15-30min；

S4、激光打标，使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型，形成LOGO；

S5、脱模，使用碱液对金属产品清洗；

S6、喷砂，对金属产品进行喷砂；

S7、化抛，抛光时间为60～70秒；

S8、第二次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚8～12微米，电解后进行水洗。

优选地，S1中，底纹前期处理打磨8～9次。

优选地，S1中，在底纹前期处理结束后，先使用粗抛皮、气动研磨机、粗抛蜡对金属产品表面进行去底纹粗抛光处理，然后使用精抛皮、气动研磨机、精抛蜡对金属产品表面进行精抛光处理，最终达到的光泽度为800～1000GU。

进一步地，粗抛皮的粗糙度为750～850目，粗抛15～16次，精抛皮的粗糙度为1150～1250目，精抛24～26次。

优选地，S2中，电解后浸泡四道水洗，每次水洗时间不少于30秒。

优选地，S3中，遮蔽剂涂抹在金属产品的厚度为0.2～0.3毫米。

优选地，在S5中，清洗时间为25～30秒。

如上所述，本发明金属镜面LOGO制作工艺，具有以下有益效果：

本发明采用激光技术，LOGO的字体边缘整齐，无危害物质，生产效率快。在实际操作是，通过两次阳极氧化有效保证产品表面的硬度和耐磨性，提高产品质量。而通过遮蔽剂对LOGO起到保护作用，也起到了一定的吸附作用。

附图说明

图1为本发明的工艺流程图。

图中：S1～S8为具体步骤。

具体实施方式