[发明专利]金属镜面LOGO制作工艺在审
| 申请号： | 201711287936.7 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108130578A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 桑亮亮 | 申请（专利权）人： | 研精舍(上海)精密机械加工有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C25D11/16;C25D5/02;C25D7/08 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 曹文衔 |
| 地址： | 201401 上海市闵行区工业*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属镜面 阳极氧化 制作工艺 氧化膜 激光打标 激光技术 抛光产品 生产效率 遮蔽保护 喷砂 脱模 打磨 字体 整齐 | ||
1.一种金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、抛光，使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理，最终达到的光泽度为800～1000GU；
S2、第一次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚3～4微米，电解后进行水洗；
S3、遮蔽，将稀释剂和油墨按照13/100～15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂，搅拌后涂抹在金属产品表面，静置15-30min；
S4、激光打标，使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型，形成LOGO；
S5、脱模，使用碱液对金属产品清洗；
S6、喷砂，对金属产品进行喷砂；
S7、化抛，抛光时间为60～70秒；
S8、第二次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚8～12微米，电解后进行水洗。
2.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S1中，底纹前期处理打磨8～9次。
3.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S1中，在底纹前期处理结束后，先使用粗抛皮、气动研磨机、粗抛蜡对金属产品表面进行去底纹粗抛光处理，然后使用精抛皮、气动研磨机、精抛蜡对金属产品表面进行精抛光处理，最终达到的光泽度为800～1000GU。
4.根据权利要求3所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：粗抛皮的粗糙度为750～850目，粗抛15～16次，精抛皮的粗糙度为1150～1250目，精抛24～26次。
5.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S2中，电解后浸泡四道水洗，每次水洗时间不少于30秒。
6.根据权利要求5所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S3中，遮蔽剂涂抹在金属产品的厚度为0.2～0.3毫米。
7.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：在S5中，清洗时间为25～30秒。
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