[发明专利]微型掩膜版、掩膜版装置及激光头有效
| 申请号： | 201711268527.2 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN108037633B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 张亮;陈旭;黄俊杰;包珊珊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种微型掩膜版、掩膜版装置及激光头，该微型掩膜版包括遮光区域和开口区域，开口区域被遮光区域包围。根据本发明实施例提供的技术方案，通过开口区域被遮光区域包围微型掩膜版，能够解决传统掩膜版成本高的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 微型 掩膜版 装置 激光头 | ||
【主权项】：
1.一种微型掩膜版，所述掩膜版包括遮光区域和开口区域，其特征在于，所述开口区域被所述遮光区域包围。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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