[发明专利]微型掩膜版、掩膜版装置及激光头有效
| 申请号： | 201711268527.2 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN108037633B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 张亮;陈旭;黄俊杰;包珊珊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微型 掩膜版 装置 激光头 | ||
1.一种掩膜版装置，其特征在于，包括：
掩膜版存储单元，用于存储若干微型掩膜版；所述掩膜版包括遮光区域和开口区域，其特征在于，所述开口区域被所述遮光区域包围；所述开口区域为圆形、三角形、矩形、椭圆形、半圆或半椭圆形；遮光区域的形状也可进行任意的选择；
掩膜版切换单元，用于将所述掩膜版存储单元的所述微型掩膜版切换成当前使用掩膜版；以及用于将所述掩膜版存储单元的所述微型掩膜版推送至设定位置，使得激光头发射的第一激光调整为封装所需的第二激光；所述掩膜版切换单元包括纵向移动单元和横向推动单元；
所述纵向移动单元用于带动所述掩膜版存储单元的上下移动；
所述横向推动单元用于将所述掩膜版存储单元的所述微型掩膜版推送至设定位置；
连接单元，用于连接所述掩膜版存储单元和所述掩膜版切换单元，使得所述当前使用掩膜版位于激光头发射激光方向的正下方。
2.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述微型掩膜版采用金属材料。
3.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述微型掩膜版采用镀有金属的玻璃片。
4.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述微型掩膜版为激光掩膜版。
5.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述掩膜版存储单元包括位于中心的圆盘和设置于所述圆盘周围的若干微型掩膜版。
6.根据权利要求5所述的掩膜版装置，其特征在于，所述掩膜版切换单元包括电机，所述电机与所述连接单元连接，所述连接单元带动所述圆盘的转动。
7.根据权利要求6所述的掩膜版装置，其特征在于，所述电机为步进电机。
8.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述掩膜版存储单元包括上下排列的若干导轨，各所述导轨上配置有所述微型掩膜版。
9.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，所述横向推动单元包括推杆电机或气缸。
10.根据权利要求1所述的掩膜版装置，其特征在于，纵向移动单元包括推杆电机。
11.根据权利要求2-10任一所述的掩膜版装置，其特征在于，所述连接单元为连接杆，所述连接杆的一端连接所述掩膜版切换单元，另一端连接掩膜版存储单元。
12.一种激光头，其特征在于，所述激光头包括权利要求1-11的任一所述的掩膜版装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711268527.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种多功能空气净化器
- 下一篇：一种AB70机场道面沥青及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
