[发明专利]抛光机晶片保持器在审
| 申请号： | 201711240271.4 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108527155A | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | D.M.赫顿;G.W.维默斯伯格;M.L.帕加诺 | 申请（专利权）人： | P.R.霍夫曼机械制品有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/06 | 分类号： | B24B41/06;B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 葛青 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种在抛光机中使用的晶片保持器。晶片保持器具有由热固性材料和/或热塑性材料构成的框架。该框架具有至少一个空腔，用于接收和支撑待在抛光机中抛光的晶片。聚合物膜垫永久地固定在至少一个空腔中。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片保持器 抛光机 空腔 热固性材料 热塑性材料 聚合物膜 抛光 晶片 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种用于在抛光机中使用的晶片保持器，所述晶片保持器具有框架，所述框架由热固性材料和/或热塑性材料层构成，所述框架具有能够接收和支撑从晶锭生长、要在抛光机中被抛光的晶片的至少一个空腔，聚合物膜垫永久地固定在所述至少一个空腔中；其中，所述至少一个空腔具有至少等于所述晶片的横截面覆盖区的横截面覆盖区；其中，所述晶片具有的厚度与横截面面积比为0.001或更小。
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