[发明专利]一种金字塔形二硫化钼纳米片及其制备方法和应用在审
申请号: | 201711157497.8 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN107961799A | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 张璋;苏绍强;周青伟;胡先标 | 申请(专利权)人: | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
主分类号: | B01J27/051 | 分类号: | B01J27/051 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 526040 广东省肇庆市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种金字塔形二硫化钼纳米片及其制备方法和应用,所述方法如下S1将载玻片作为基底置于氢氟酸中浸泡3~5min,然后清洗除去表面硅酸盐反应生成产物、干燥,备用;S2用化学气相沉积法,以升华硫与三氧化钼、氯化钼或四硫代钼酸铵分别作为硫源和钼源,用三温区管式炉在基底上生长二硫化钼。本发明提供的金字塔形二硫化钼纳米片尺寸均匀,有更高密度边界,具有良好导电性能和催化性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 金字塔 二硫化钼 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种金字塔形二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,所述方法如下:S1:将载玻片作为基底置于氢氟酸中浸泡3~5min,然后清洗除去表面硅酸盐反应生成产物、干燥,备用;S2:用化学气相沉积法,以升华硫与三氧化钼、氯化钼或四硫代钼酸铵分别作为硫源和钼源,用三温区管式炉在基底上生长二硫化钼;其中,生长过程中所述三温区管式炉的三个温区温度调控为:从室温经5min~15min升高至300℃~500℃,保持5~10min后再经过5~10min升温至730℃~750℃并保持5~10min;然后经3~5min降温至650℃~700℃并打开管式炉快速降温;生长过程中气流调控为:升温达到650℃~700℃之前和打开管式炉快速降温之后气流为200sccm,期间气流为25sccm~50sccm。
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