[发明专利]一种基于膏体的高精度多孔氮化硅复杂形状件的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711142473.5 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN108002843B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 史玉升;刘荣臻;吴甲民;陈双;陈鹏;陈安南;文世峰 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C04B35/591 分类号: C04B35/591;C04B35/622;C04B35/634;C04B38/06
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 周磊;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于材料成型技术领域,并公开了一种基于膏体的高精度多孔氮化硅复杂形状件的制备方法,将光固化工艺与碳热还原氮化工艺结合,以氧化硅、碳粉等为原料,采用基于陶瓷膏体的光固化成型工艺制备出复合复杂形状件后,通过碳热还原氮化工艺将其氮化为多孔氮化硅部件。本发明所提出的工艺方法采用陶瓷膏体为原料,所制备的坯体具有较高的尺寸精度,而后处理所用的碳热还原氮化方法也具有非常好的近净成型特性,适合成型高精度复杂形状多孔氮化硅件。本发明所提出的制备方法具有工艺流程短、近净尺寸成型性好等特点,是一种具有良好工业应用前景的复杂形状多孔氮化硅件制备方法。
搜索关键词: 一种 基于 高精度 多孔 氮化 复杂 形状 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于膏体的高精度多孔氮化硅复杂形状件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)按如下重量比例准备原料:氧化硅粉22份~46份,碳粉3.5份~13.5份,烧结助剂1.5份~3.5份,氮化硅晶种3份~7份,光敏树脂30份~70份;2)将以上述原料混合制备出复合膏体;3)通过光固化成型的方式预成型出复合坯体;4)对复合坯体进行碳热还原氮化烧结,获得多孔氮化硅复杂形状件。
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