[发明专利]一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201711126620.X | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN107761051B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 乔永康;潘晟恺;杨凯 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;G03F1/64;G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙，间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料，从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题。包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 掩模蒸镀 组件 装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版，其特征在于，包括：掩模版本体，包括掩模版框架以及所述掩模版框架环绕的掩模部分，所述掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻所述掩模图案区域之间的无效区域；支撑条，所述支撑条的两端固定在所述掩模版框架上，且所述支撑条跨设于所述掩模部分并投影于所述无效区域内，用于支撑所述掩模版本体；升降组件，设置在所述掩模版框架上对应所述支撑条的端部位置，所述升降组件能够带动所述支撑条的端部沿垂直于所述掩模版框架所在平面朝向远离所述掩模版框架的方向移动。
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