[发明专利]一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置

权利要求书

1.一种掩模版，其特征在于，包括：

掩模版本体，包括掩模版框架以及所述掩模版框架环绕的掩模部分，所述掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻所述掩模图案区域之间的无效区域；

支撑条，所述支撑条的两端固定在所述掩模版框架上，且所述支撑条跨设于所述掩模部分并投影于所述无效区域内，用于支撑所述掩模版本体；

升降组件，设置在所述掩模版框架上对应所述支撑条的端部位置，所述升降组件能够带动所述支撑条的端部沿垂直于所述掩模版框架所在平面朝向远离所述掩模版框架的方向移动。

2.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述升降组件至少包括一个升降平面，所述支撑条的端部投影于所述升降平面的边界范围内，所述升降平面带动所述支撑条的端部移动。

3.根据权利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述升降平面上设置有镂空区域，所述镂空区域对应所述支撑条和所述掩模版框架之间的固定位置。

4.根据权利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述升降组件还包括在所述升降平面背离所述支撑条的一侧设置的弹性元件，所述弹性元件能够拉动所述升降平面朝向所述掩模版框架的方向移动。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩模版，其特征在于，在所述掩模版框架设置所述支撑条的一侧表面设置有凹槽，所述升降组件设置于所述凹槽内。

6.根据权利要求5所述的掩模版，其特征在于，所述升降平面至少在靠近所述支撑条的一侧边缘设置有连接板，所述连接板的一侧与所述升降平面的侧边铰接、相对的另一侧与所述掩模版本体铰接。

7.一种掩模蒸镀组件，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的掩模版，还包括载板，用于承载固定待蒸镀基板，所述载板承载所述待蒸镀基板的一侧朝向所述掩模版；

在所述载板上正投影于所述升降组件的位置处还设置有电磁吸附部件；所述升降组件上设置有磁性金属部件，或者，所述升降组件包含磁性金属材料。

8.根据权利要求7所述的掩模蒸镀组件，其特征在于，所述载板朝向所述掩模版的一侧设置有凹陷部，所述电磁吸附部件设置在所述凹陷部内且所述电磁吸附部件的表面与所述载板朝向所述掩模版的一侧表面位于同一平面内。

9.根据权利要求8所述的掩模蒸镀组件，其特征在于，在所述电磁吸附部件和/或所述磁性金属部件表面还设置有缓冲层。

10.一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室，以及设置在所述蒸镀腔室内的蒸镀源，其特征在于，还包括上述权利要求7-9任一项所述的掩模蒸镀组件。