[发明专利]光学器件衬底、光学器件衬底制造方法及光学器件有效
| 申请号： | 201711070751.0 | 申请日： | 2017-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN108023000B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 朴胜浩;金文铉;宋台焕 | 申请（专利权）人： | 普因特工程有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 刘红梅;王漪 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光学器件衬底，包括衬底主体，所述衬底主体具有形成在其上的安装空间；以及层压层，所述层压层形成在衬底主体上。用于连接安装空间和衬底主体的外部的凹槽图案化在层压层中。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学器件衬底，包括：衬底主体，所述衬底主体具有形成在其上的安装空间；以及层压层，所述层压层形成在所述衬底主体上，其中，用于连接所述安装空间和所述衬底主体的外部的凹槽图案化在所述层压层中。
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