[发明专利]一种阵列基板的制备方法和阵列基板

摘要

本发明提供一种阵列基板的制备方法和阵列基板，所述阵列基板的制备方法包括：先利用第一掩膜图形通过刻蚀工艺对金属薄膜进行第一次刻蚀，再利用第二掩膜图形通过刻蚀工艺对金属薄膜进行第二次刻蚀，以形成金属图形，且第二掩膜图形的宽度小于第一掩膜图形的宽度。本发明提供阵列基板的制备方法可以减小掩膜图形对刻蚀液的遮挡作用，从而可以减小金属图形的坡度角，在后续阵列基板的制作过程中可以提高沉积在金属图形的边缘位置上的绝缘层的厚度，进而避免金属图形的边缘位置发生静电击穿，提高阵列基板的良率，而且，上述阵列基板的制备方法工艺简单、成本较低、制备时间较短。

主权项

一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基底上沉积金属薄膜；通过光刻工艺在形成有所述金属薄膜的基底上形成第一掩膜图形；利用所述第一掩膜图形，通过刻蚀工艺去除部分所述金属薄膜，以减小未被所述第一掩膜图形覆盖的金属薄膜的厚度；减小所述第一掩膜图形的宽度，以形成第二掩膜图形；利用所述第二掩膜图形，通过刻蚀工艺形成金属图形。