[发明专利]掩模板检测设备、掩模板检测方法以及相应的光源控制方法有效

专利信息
申请号: 201710927502.2 申请日: 2017-09-30
公开(公告)号: CN107734272B 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 林治明;黄俊杰;白音必力;郝志元;张德;辛小林;刘旭;李冬伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H04N5/372 分类号: H04N5/372;H04N17/00;G06T7/00
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 黄亮
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开实施例提出了掩模板检测设备、掩模板检测方法和相应的光源控制方法。该设备包括:图像传感器,被配置为捕捉掩模板的图像;多个光源,布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧,其中,所述多个光源中的至少一个光源能够在所述图像传感器捕捉所述掩模板的第一区域的图像时发光,其中,所述至少一个光源包括第一范围内的光源,所述第一范围与所述第一区域相对应且所述图像传感器在光源平面中的正投影的位置落在所述第一范围中。该光源控制方法包括:在图像传感器移动至与待检查掩模板的第一区域相对应的位置处时,开启布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧的多个光源中与所述第一区域相对应的至少一个光源。
搜索关键词: 模板 检测 设备 方法 以及 相应 光源 控制
【主权项】:
1.一种掩模板检测设备,所述掩模板被划分为多个检测区域,所述掩模板检测设备包括:/n图像传感器,被配置为在每个检测时刻捕捉其在掩模板上的正投影所落入的检测区域的图像;/n光源平面,布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧,所述光源平面划分为多个范围,所述范围与所述掩模板的检测区域一一对应,所述光源平面上分布有多个光源,/n其中,所述光源平面的与待检测的检测区域相对应的范围内的光源被配置为发光,所述光源平面的与所述待检测的检测区域相对应的范围外的光源被配置为不发光。/n
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