[发明专利]掩模板检测设备、掩模板检测方法以及相应的光源控制方法

权利要求书

1.一种掩模板检测设备，所述掩模板被划分为多个检测区域，所述掩模板检测设备包括：

图像传感器，被配置为在每个检测时刻捕捉其在掩模板上的正投影所落入的检测区域的图像；

光源平面，布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧，所述光源平面划分为多个范围，所述范围与所述掩模板的检测区域一一对应，所述光源平面上分布有多个光源，

其中，所述光源平面的与待检测的检测区域相对应的范围内的光源被配置为发光，所述光源平面的与所述待检测的检测区域相对应的范围外的光源被配置为不发光。

2.根据权利要求1所述的掩模板检测设备，其中，所述光源平面设置在光源支撑结构上，所述光源支撑结构能够使得所述光源平面在出光方向上相对于所述掩模板移动。

3.一种使用如权利要求1或2所述的掩模板检测设备的方法，包括：

将所述图像传感器移动至与待检查掩模板的待检测的检测区域相对应的位置处；

开启布置在所述光源平面的与所述待检测的检测区域相对应的范围内的光源；以及

捕捉所述待检测的检测区域的图像。

4.根据权利要求3所述的方法，还包括：

移动所述光源支撑结构，以使得所述光源平面在出光方向上相对于所述掩模板移动。

5.一种用于在使用如权利要求1或2所述的掩模板检测设备检测掩模板时控制光源的方法，包括：

在所述图像传感器移动至待检测的检测区域相对应的位置处时，

开启布置在所述光源平面的与所述待检测的检测区域相对应的范围内的光源；

关闭布置在所述光源平面的与所述待检测的检测区域相对应的范围外的光源。

6.根据权利要求5所述的方法，还包括：

移动所述光源支撑结构，以使得所述光源平面在出光方向上相对于所述掩模板移动。