[发明专利]图案形成装置有效

专利信息
申请号: 201710905028.3 申请日: 2013-03-13
公开(公告)号: CN107656427B 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 加藤正纪;鬼头义昭;堀正和;木内彻 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/24 分类号: G03F7/24;G03F9/00;G03F1/42
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;李文屿
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及图案形成装置。设有:基材,包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面;和膜体,形成在该基材的表面上,且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50%以下。
搜索关键词: 图案 形成 装置
【主权项】:
一种图案形成装置,对挠性的片状衬底进行光学处理来形成图案,其特征在于,包括:衬底支承部件,其具有:基材,用于将所述片状衬底以弯曲状态或平坦状态进行支承;膜体,形成于支承所述片状衬底的所述基材的表面;通过层差形成在所述膜体上的基准图案;图案曝光部,其投射第一光而将所述图案曝光,所述第一光用于对被所述衬底支承部件所支承的所述片状衬底进行光学处理;监视器系统,其通过来自所述图案曝光部的所述第一光的投射,对在所述片状衬底的表面、或在所述衬底支承部件的所述基材的表面产生的反射光的一部分进行检测;以及光学检测部,为了光学检测所述基准图案或形成于所述衬底上的标记,投射与所述第一光不同波长的第二光来检测来自所述基准图案或所述标记的反射光,调整所述膜体的厚度,将所述膜体的相对于所述第一光的反射率设定为小于相对于所述第二光的反射率。
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