[发明专利]图案形成装置

说明书

本发明涉及图案形成装置。设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。

本申请是PCT国际申请号为PCT/JP2013/057062、申请日为2013年3月13日、发明名称为“衬底支承装置及曝光装置”、国家申请号为201380043800.5的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及将通过处理装置处理的挠性衬底的一部分以弯曲状态或平坦状态进行支承的衬底支承装置、以及通过该支承装置支承的挠性衬底的曝光装置。

本申请基于2012年8月28日申请的日本特愿意2012-188116号主张优先权，并在此援引其内容。

背景技术

近年来，作为平板显示器，除了液晶方式和等离子体方式外，有机EL方式也受到关注。在是有源矩阵方式的有机EL(AMOLED)显示器的情况下，在包括驱动各像素的薄膜晶体管(TFT)、驱动电路、各种信号线等的背板上，层叠有包括由有机EL形成的像素发光层及透明电极层等的上板。

在由有机EL形成的显示器的制造方式中，作为以更低成本且高量产性的方式之一，提出了如下方法：将可挠性(柔性)的树脂材料、塑料或金属箔形成为厚度在200μm以下的长条状的薄片(薄膜)，并在其上以卷对卷(Roll to Roll)方式直接制造出显示器的背板和上板(专利文献1)。

在专利文献1中，公开如下的制造方法：将构成各像素用TFT的电极层、半导体层、绝缘膜等、以及用于形成像素发光层、布线层的流动性材料通过喷墨方式等的印刷机连续地形成在可挠性的长条薄片(PET(Poly-Ethylene Terephthalate)薄膜等)上，由此低成本地制造显示器。

而且，在专利文献1中还提出了如下方案：为了精密地加工出夹着绝缘层而上下层叠的TFT的栅极电极层与漏极/源极电极层的相对位置关系及各电极的形状等，形成通过紫外线的照射能够使表面的亲疏水性改性的自组装单分子层(SAM)，并使用利用了紫外线的图案曝光装置来更为精密地加工出各电极层的形状。

【现有技术文献】

【专利文献1】国际公开2010/001537号

发明内容

上述的专利文献1的曝光装置将平面掩模的图案经由投影光学系统投影曝光于被平坦地支承的可挠性的长条衬底薄片上。

而在通过卷对卷方式在被连续搬运的挠性衬底薄片上将掩模的图案反复进行曝光的情况下，通过采用将衬底薄片的搬运方向作为扫描方向、使掩模为圆筒状的旋转掩模的扫描型曝光装置，能够期待生产性的飞跃性提高。

被连续搬运的挠性衬底薄片是薄的衬底，通过空气轴承的平坦或弯曲的垫面等而被支承。或者，衬底薄片卷附在旋转滚筒(直径大的辊)的圆筒状外周面的一部分上，从而以弯曲状态被支承。

在利用曝光装置在形成有ITO等透明层的透明度高的PET薄膜、PEN(Poly-Ethylene Naphthalate)薄膜、极薄玻璃等上布图的情况下，向涂布于该衬底表面的感光层(例如，光致抗蚀剂、感光性硅烷偶联剂等)投射的图案曝光光会到达衬底之下的垫面或是旋转滚筒的外周面。

因此，存在在垫面或旋转滚筒的外周面反射了光成分(返回光)从衬底的背面侧向表面侧(投影光学系统那一方)返回来，从而使形成于感光层的图案的像质劣化的情况。若能够将位于衬底背侧的垫面或旋转滚筒的外周面的反射率抑制得很低，则能够忽略该返回光带来的影响。