[发明专利]图案形成装置有效
申请号: | 201710905028.3 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN107656427B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 加藤正纪;鬼头义昭;堀正和;木内彻 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/24 | 分类号: | G03F7/24;G03F9/00;G03F1/42 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;李文屿 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 装置 | ||
1.一种图案形成装置,对挠性的片状衬底进行光学处理来形成图案,其特征在于,包括:
衬底支承部件,其具有:基材,用于将所述片状衬底以弯曲状态或平坦状态进行支承;膜体,形成于支承所述片状衬底的所述基材的表面,所述膜体相对于用于对所述片状衬底进行光学处理的第一光的反射率为50%以下;通过微小层差形成在所述膜体上的基准图案;
图案曝光部,其对被所述衬底支承部件所支承的所述片状衬底投射所述第一光而将所述图案曝光;
监视器系统,其通过来自所述图案曝光部的所述第一光的投射,对在所述片状衬底的表面、或在所述衬底支承部件的所述膜体的表面产生的反射光的一部分进行检测;以及
光学检测部,为了光学检测所述基准图案或形成于所述衬底上的标记,投射与所述第一光不同波长的第二光来检测来自所述基准图案或所述标记的反射光,
所述膜体作为2层以上的多层膜形成,调整所述膜体的厚度,将所述膜体的相对于所述第一光的反射率设定为小于相对于所述第二光的反射率。
2.根据权利要求1所述的图案形成装置,其特征在于,
所述基材由以铁或铝为主成分的金属材料制成,
作为所述多层膜形成的所述膜体相对于所述第一光的反射率为20%以下。
3.根据权利要求2所述的图案形成装置,其特征在于,
所述多层膜是形成在所述基材的表面上的基底层和形成在所述基底层之上的顶层的双层构造,所述基底层的厚度大于所述顶层的厚度。
4.根据权利要求3所述的图案形成装置,其特征在于,
所述基底层为铬(Cr)、铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)或金(Au)中的任一个,所述顶层为氧化铬(Cr2O3、CrO)、氧化钛(TiO)、锆石、氧化铪、或类金刚石(DLC)中的任一个。
5.根据权利要求4所述的图案形成装置,其特征在于,
所述基底层由铬(Cr)构成,所述顶层由厚度为30nm~150nm的氧化铬(Cr2O3、CrO)构成。
6.根据权利要求4所述的图案形成装置,其特征在于,
所述基底层由铜(Cu)构成,所述顶层由厚度为0.5μm以上的类金刚石(DLC)构成。
7.根据权利要求3所述的图案形成装置,其特征在于,
所述基准图案通过微小层差形成于所述基底层,所述顶层沿着所述基底层的微小层差层叠。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的图案形成装置,其特征在于,
设所述第一光的中心波长为λ1、m为包括零的任意整数、所述基准图案的层差量为ΔDP时,设定为如下范围:
λ1·(m+1/8)/2≦ΔDP≦λ1·(m+7/8)/2。
9.根据权利要求1~7中任一项所述的图案形成装置,其特征在于,
设所述第一光的中心波长为λ1、m为包括零的任意整数、所述基准图案的层差量为ΔDP时,设定为如下范围:
λ1·(m+1/4)/2≦ΔDP≦λ1·(m+3/4)/2。
10.根据权利要求1~7中任一项所述的图案形成装置,其特征在于,
所述第一光为紫外波段的光,
所述第二光为可视波段~红外波段的波段的光。
11.根据权利要求1~7中任一项所述的图案形成装置,其特征在于,
所述衬底支承部件是旋转滚筒,所述旋转滚筒以外周面的一部分支承所述片状衬底,所述外周面自中心线以一定半径弯曲成圆筒面状,并且所述旋转滚筒为了沿所述外周面的周向输送所述衬底而绕所述中心线旋转。
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