[发明专利]曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质有效
| 申请号： | 201710875561.X | 申请日： | 2017-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN107422615B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 胡炳煌 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。本发明提供的控制方法具有提高曝光机生产效率的优点。本发明还提供了一种曝光机控制方法系统及一种存储介质。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 控制 方法 控制系统 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成，其中，所述“判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成”包括：检测到光罩工作位上有重量变化时，认为此时正在进行光罩的更换动作，然后间隔预设时间之后，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机；判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。
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