[发明专利]曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质

权利要求书

1.一种曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法包括：

当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成，其中，所述“判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成”包括：检测到光罩工作位上有重量变化时，认为此时正在进行光罩的更换动作，然后间隔预设时间之后，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换；

当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机；

判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

2.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”还包括：

将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；

将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；

判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。

3.一种曝光机控制系统，其特征在于，所述曝光机控制系统包括：

监控模块，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

判断模块，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成，其中，所述“判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成”包括：检测到光罩工作位上有重量变化时，认为此时正在进行光罩的更换动作，然后间隔预设时间之后，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换；所述判断模块还用于判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

传送模块，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机；

曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

4.根据权利要求3所述的曝光机控制系统，其特征在于，所述判断模块包括：

第一记录子模块，用于将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；

第二记录子模块，用于将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；

判断子模块，用于判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。

5.一种存储介质，其特征在于，其存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行如权利要求1-2任一项所述的方法。