[发明专利]曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质

说明书

本发明提供了一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。本发明提供的控制方法具有提高曝光机生产效率的优点。本发明还提供了一种曝光机控制方法系统及一种存储介质。

技术领域

本发明涉及曝光设备领域，具体涉及一种曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质。

背景技术

现有技术中，曝光及显影的生产工艺包括如下步骤：清洗玻璃基板，涂布上光阻，烘烤，进入曝光机，然后利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形，最后经过显影制程显示图形。当上一批玻璃基板流出曝光机，下一批玻璃基板进入曝光机时，根据玻璃基板的信息，系统选择与之相对应的光罩，即，此时，需要更换光罩。将原来的光罩搬移走，新的光罩从曝光机的储槽位移动至工作位，完成光罩的更换。当光罩更换完毕之后曝光机才能正常运行。然而，当光罩的更换没有完成，下一批玻璃基板就进入曝光机时，就会导致曝光机死机，降低生产效率。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光机控制方法及曝光机控制系统，具有提高曝光机生产效率的优点。

本发明实施例提供一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括如下步骤：

当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。

本发明实施例还提供一种曝光机控制系统，所述曝光机控制系统包括：

监控模块，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

判断模块，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

传送模块，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机；

等待模块，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外；

曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，其特征在于，其存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行上述提供的所述的方法。

本发明实施例还提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括存储了计算机程序的非瞬时性计算机可读存储介质，所述计算机程序可操作来使计算机执行上述提供的方法。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

本发明实施例的曝光机控制系统，在待处理基板进入曝光机之前，对曝光机内的光罩更换进行判断，通过判断曝光机内的光罩是否完成，从而决定是否将待处理基板送进曝光机曝光，当判断出曝光机内的光罩更换完成，则执行将待处理基板送进曝光机的动作，否则，不对待处理基板作任何操作。换言之，光罩是否更换完成不会受到待处理基板进入的影响，从而不会导致系统接收指令出错，降低了死机的概率，提高了曝光机的生产效率。

附图说明