[发明专利]用于沉积复合层的设备和其沉积方法

摘要

本揭露涉及一种用于沉积复合层的设备，其包含腔室、衬底支撑件、驱动单元、喷淋头、源气体供应单元、第一反应气体供应单元和第二反应气体供应单元。衬底支撑件安置于腔室中以支撑其上沉积薄膜的衬底。驱动单元连接到衬底支撑件。喷淋头被配置以通过面向衬底的沉积表面的源气体喷嘴和反应气体喷嘴喷洒源气体和反应气体中的每一种以用于在衬底上沉积薄膜。源气体供应单元被配置以将源气体提供到源气体喷嘴。第一反应气体供应单元被配置以将第一反应气体提供到反应气体喷嘴。第二反应气体供应单元被配置以将第二反应气体提供到反应气体喷嘴。本揭露另涉及一种用于沉积复合层的方法。本揭露的用于沉积复合层的设备可改善复合层的沉积速度。

主权项

一种用于沉积复合层的设备，其特征在于，所述设备包括：执行沉积薄膜的工艺的腔室；衬底支撑件，其安置于所述腔室中以支撑其上沉积所述薄膜的衬底；驱动单元，其连接到所述衬底支撑件以在所述腔室中的第一轴向方向上移动所述衬底支撑件；喷淋头，其被配置以通过面向所述衬底的沉积表面的源气体喷嘴和反应气体喷嘴，喷洒源气体和反应气体中的每一种，以用于在所述衬底上沉积所述薄膜，且包括用于施加共同电力的电极部分，以使所述源气体喷嘴和所述反应气体喷嘴的前方同时形成等离子体；源气体供应单元，其被配置以将所述源气体提供到所述源气体喷嘴；第一反应气体供应单元，其被配置以将第一反应气体提供到所述反应气体喷嘴；以及第二反应气体供应单元，其被配置以将第二反应气体提供到所述反应气体喷嘴，其中所述源气体喷嘴和所述反应气体喷嘴在与所述第一轴向方向交叉的第二轴向方向上延伸，且在所述第二轴向方向上相互平行地安置。