[发明专利]抗高温高速气流烧蚀的微量氮填隙钽涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201710852189.0 | 申请日： | 2017-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN109518143A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 牛云松;朱圣龙;沈明礼;王福会;陈明辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所;东北大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及抗烧蚀涂层领域，特别提供一种抗高温高速气流烧蚀的微量氮填隙钽涂层及其负辉区磁控溅射制备方法。微量氮填隙钽涂层的化学成分为：N原子百分比在4％～10％范围内，其余为Ta；该涂层的晶体结构为100％的体心立方结构β‑Ta(N)相。采用通用的磁控溅射设备，靶材为纯钽，在磁控溅射过程中，基片零件放置在阳极和阴极之间的负辉区内，零件无需加热。使用的工作气体为纯氩气和氮气，氩分压范围为1.2×10‑1～2.5×10‑1Pa之间，氮分压范围为3×10‑2～8×10‑2Pa之间，涂层厚度范围为0.5～80μm。该涂层具有优秀的抗烧蚀性能，并具有过渡金属氮化物高硬度耐磨和纯金属涂层的高韧性优点。 | ||
| 搜索关键词： | 微量氮 钽涂层 填隙 磁控溅射 高速气流 抗高温 分压 烧蚀 制备 过渡金属氮化物 氮气 阴极 磁控溅射设备 体心立方结构 纯金属涂层 抗烧蚀涂层 阳极 工作气体 晶体结构 纯氩气 高韧性 高硬度 抗烧蚀 通用的 靶材 纯钽 耐磨 加热 | ||
【主权项】：
1.一种抗高温高速气流烧蚀的微量氮填隙钽涂层，其特征在于，采用负辉区磁控溅射获得体心立方结构的钽涂层，所述钽涂层为微量氮填隙的钽涂层，涂层结构为体心立方结构的β相，微量氮填隙钽涂层的化学成分为：N原子百分比在4％～10％范围内，其余为Ta。
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