[发明专利]一种双面氧化铝钝化背面局部接触高效率晶体硅太阳能电池的制作方法在审

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申请号: 201710794936.X 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN109473504A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 李良;李化阳;张良;王霞;姚玉;王俊 申请(专利权)人: 镇江大全太阳能有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212200 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种双面氧化铝钝化背面局部接触高效率晶体硅太阳能电池的制作方法,包括如下步骤:(1)硅片去损伤&制绒;(2)磷扩散;(3)磷硅玻璃去除及背面抛光;(4)氧化铝制备;(5)氮化硅沉积;(6)印刷背电极;(7)背电场印刷;(8)正面印刷;(9)烧结、测试。本发明借鉴PERC电池结构,通过丝网印刷方式制备氧化铝钝化膜实现正反面钝化,整个制作过程不使用TMA(三甲基铝),工艺过程安全可靠、环境友好,而且通过两面氧化铝钝化,大大降低硅片正反面的表面复合,最终实现电池片转换效率的提升。
搜索关键词: 氧化铝 钝化 晶体硅太阳能电池 局部接触 高效率 硅片 背面 丝网印刷方式 背电场印刷 氮化硅沉积 氧化铝制备 背面抛光 表面复合 电池结构 工艺过程 环境友好 磷硅玻璃 三甲基铝 正面印刷 制作过程 转换效率 烧结 背电极 电池片 钝化膜 磷扩散 正反面 去除 制绒 制备 制作 损伤 测试 印刷
【主权项】:
1.一种双面氧化铝钝化背面局部接触高效率晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)硅片去损伤&制绒:选择P型硅片作为硅基体,在酸液下进行硅片去损伤及表面绒面制备;(2)磷扩散:对硅片的制绒面进行磷扩散形成N型层,扩散自然形成的磷硅玻璃作为绒面的掩膜以便实现背面去除发射结以及背抛光的目的;(3)磷硅玻璃去除及背面抛光:去除背面磷硅玻璃后,进行背抛光并清洗;(4)氧化铝钝化膜制备:在硅片的正/背面通过丝网印刷形成氧化铝钝化膜,烘干并退火, 氧化铝钝化膜厚度30‑100nm;(5)氮化硅沉积:在硅片的正/背面沉积氮化硅减反射薄膜,镀膜厚度75‑85nm,折射率2.08‑2.14;(6)印刷背电极:背面印刷背电极,烘干,烘干温度100℃‑300℃,烘干时间20‑60S;(7)背电场印刷:背面印刷可烧穿氮化硅的铝浆,烘干,烘干温度100℃‑300℃,烘干时间20‑60S;(8)正面印刷:正面印刷银浆,烘干,烘干温度100℃‑300℃,烘干时间20‑60S;(9)烧结、测试:烧结温度700℃‑800℃,烧结时间20‑60S,烧结过程中铝浆烧穿背面氮化硅薄膜,通过镂空处与硅基底形成良好的欧姆接触及局部铝背场。
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