[发明专利]位置检测方法和装置、存储介质、光刻装置和制造方法有效

专利信息
申请号: 201710767002.7 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107797389B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 宫崎忠喜 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;G06T7/00;G06T7/73
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 杨小明
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及位置检测方法和装置、存储介质、光刻装置和制造方法。一种方法通过利用具有第1到第N特征点的模板检测图像中的目标的位置。所述方法包括在依次将第1到第n(n≤N)个特征点设定为关注特征点的同时,对于模板关于图像的各相对位置通过重复处理获得指示模板与图像之间的相关性的指标。当关注特征点是第J特征点时,确定基于第1到第J特征点的处理获得的指示相关性的中间指标是否满足截止条件,并且,如果中间指标满足截止条件,则取消第(J+1)及随后的特征点的处理。
搜索关键词: 位置 检测 方法 装置 存储 介质 光刻 制造
【主权项】:
一种位置检测方法,所述位置检测方法使得计算机通过利用具有第1到第N特征点的模板的模板匹配来检测图像中的目标的位置,其中N是不小于3的自然数,所述方法包括:在依次将第1到第n个特征点设定为关注特征点的同时,通过对于模板关于图像的多个相对位置中的每一个重复处理来获得指示模板与图像之间的相关性的指标,其中n≤N,其中,在对于所述多个相对位置中的每一个的所述获得中,在关注特征点为第J特征点的情况下,确定基于第1到第J特征点的处理获得的指示相关性的中间指标是否满足截止条件,并且,在中间指标满足截止条件的情况下,取消第(J+1)及随后的特征点的处理,其中J是不小于2且小于N的自然数。
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