[发明专利]位置检测方法和装置、存储介质、光刻装置和制造方法

说明书

本发明涉及位置检测方法和装置、存储介质、光刻装置和制造方法。一种方法通过利用具有第1到第N特征点的模板检测图像中的目标的位置。所述方法包括在依次将第1到第n(n≤N)个特征点设定为关注特征点的同时，对于模板关于图像的各相对位置通过重复处理获得指示模板与图像之间的相关性的指标。当关注特征点是第J特征点时，确定基于第1到第J特征点的处理获得的指示相关性的中间指标是否满足截止条件，并且，如果中间指标满足截止条件，则取消第(J+1)及随后的特征点的处理。

技术领域

本发明涉及位置检测方法、存储用于位置检测的程序的介质、位置检测装置、光刻装置和物品制造方法。

背景技术

近年，随着诸如半导体器件的物品的微细化和集成化程度的提高，对提高诸如曝光装置和压印装置等的光刻装置的对准精度的要求变得更严格。为了检测通过转印机构转印到光刻装置的基板的位置，光刻装置可以检测在基板上形成的检测目标(标记)的位置。在检测目标的位置的这种检测中可以使用称为模板匹配的方法。模板匹配是在改变包含检测目标的图像与模板的相对位置的同时在多个相对位置中的每一个处计算指示图像与模板之间的相关性的指标并且基于具有最高相关性的相对位置检测检测目标的位置的方法。在本说明书中，高相关性意味着图像中的检测目标与模板高精度地匹配。

指示相关性的指标的例子是用于获得温度和图像之间的差的平方的和的SSD(平方差之和)和用于获得差的绝对值的和的SAD(绝对差之和)。经归一化的相关性(后面描述)也是指示相关性的指标。由于计算指示相关性的指标需要很长时间，因此为了提高计算速度，提出了各种方法。例如，为了提高SSD或SAD的速度，称为SSDA(顺序相似性检测算法)的方法是可用的(D.I.Barnea,and H.F.Silverman,“A class of algorithms for fastdigital image registration”,IEEE Trans.On Computers,IEEE,Feb.1972,Vol.C-21,No.2,pp.179-186)。在SSDA中，如果在给定相对位置的不相似度的计算期间累积值超过阈值，则随后特征点处的累积被取消。不相似度意味着值越小，相关性越高。日本专利公开No.4-098377描述了使用SSDA的方法。在日本专利公开No.4-098377所描述的方法中，如果计算过程中的累计值超过搜索图像内的已经计算的积累值，则计算被取消，并且处理前进到下一个位置的处理。这避免执行任何不必要的计算的需求，从而使得能够大大缩短计算时间并提高模板匹配率。

不幸的是，该常规方法存在确定是否在各特征点处取消计算需要花费长时间的问题。特别是当通过归一化相关性评估相关性时，由于用于获得相关度的计算量大于SSD和SAD的计算量，因此确定需要长的时间。

发明内容

本发明提供在检测目标的位置的时间上有利的技术。

本发明的第一方面提供一种位置检测方法，所述位置检测方法使得计算机通过利用具有第1到第N特征点的模板的模板匹配来检测图像中的目标的位置，其中N是不小于3的自然数，所述方法包括：在依次将第1到第n个特征点设定为关注特征点的同时，通过对于模板关于图像的多个相对位置中的每一个重复处理来获得指示模板与图像之间的相关性的指标，其中n≤N，其中，在对于所述多个相对位置中的每一个的所述获得中，在关注特征点为第J特征点的情况下，确定基于第1到第J特征点的处理获得的指示相关性的中间指标是否满足截止条件，并且，在中间指标满足截止条件的情况下，取消第(J+1)及随后的特征点的处理，其中J是不小于2且小于N的自然数。