[发明专利]光学临近修正的建模方法及用于其的图形权重生成方法有效
| 申请号: | 201710757094.0 | 申请日: | 2017-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN109426067B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
| 发明(设计)人: | 王良;王辉 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
| 代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 高伟;卜璐璐 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明提供一种光学临近修正的建模方法及用于其的图形权重生成方法。所述光学临近修正的建模方法包括:基于量测文件中多种量测图形各自的多个测量值构建量测矩阵;对所述量测矩阵进行特征分解以得到特征值;以及基于所述特征值生成针对所述多种量测图形各自的权重。本发明所提供的用于光学临近修正建模的图形权重生成方法通过定量的方式设置量测文件中各种量测图形的权重,与传统的定性设置权重的方式相比,能够更接近最优的权重,从而使得基于其的光学临近修正的建模过程中所需的迭代次数显著减少,从而缩短建模时间,提高建模效率和模型的精确度。 | ||
| 搜索关键词: | 光学 临近 修正 建模 方法 用于 图形 权重 生成 | ||
【主权项】:
1.一种用于光学临近修正建模的图形权重生成方法,其特征在于,所述方法包括:基于量测文件中多种量测图形各自的多个测量值构建量测矩阵;对所述量测矩阵进行特征分解以得到特征值;以及基于所述特征值生成针对所述多种量测图形各自的权重。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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