[发明专利]光学临近修正的建模方法及用于其的图形权重生成方法

权利要求书

1.一种用于光学临近修正建模的图形权重生成方法，其特征在于，所述方法包括：

基于量测文件中多种量测图形各自的多个测量值构建量测矩阵，使得所述多种量测图形处在同一个线性空间，其中所述量测图形为测试光罩上设计的图形，每种量测图形对应的所述测量值为该种量测图形曝光到晶圆上的测量值；

对所述量测矩阵进行特征分解以得到特征值，其中分解的特征量能够用于代表光学临近修正建模数据在线性变换中的宏观特征，所述特征值表示线性变换的振动和旋转；

基于所述特征值生成针对所述多种量测图形各自的权重，包括：如果所生成的特征值为实数，则直接将所述特征值作为所述权重；如果所生成的特征值为复数，则取所述复数的实部或对所述复数求模以作为所述权重。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于量测文件中多种量测图形各自的多个测量值构建量测矩阵包括：

从所述量测文件中选择n种图形，其中n为大于1的自然数；

对于所述n种图形中的每种图形，选择n个测量值；以及

基于所选择的n²个测量值构建方阵以作为所述量测矩阵。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所选择的n²个测量值构建方阵以作为所述量测矩阵包括：

将所述每种图形的n个测量值以行的形式填充到矩阵中。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据需要对所述权重进行定性微调，以实现定量与定性相结合地生成针对所述多种量测图形各自的最优权重。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述定性微调包括：基于所述量测图形的类型、设计规则以及工程经验这三者中的至少一项进行权重微调。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多种量测图形包括不同尺寸的同一类别的量测图形和/或不同类别的量测图形。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述量测图形包括跨节距图形和/或二维图形。

8.一种光学临近修正的建模方法，其特征在于，所述方法包括：

基于带权重的量测文件优化光学临近修正模型，直到所述模型满足规格，其中，所述带权重的量测文件为量测文件中包含各种量测图形的各自权重的量测文件，所述各种量测图形的各自权重是基于权利要求1-7中的任一项所述的用于光学临近修正建模的图形权重生成方法生成。