[发明专利]一种光刻胶去胶液在审
| 申请号： | 201710753705.4 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN107577121A | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;张兵;朱坤 | 申请（专利权）人： | 昆山艾森半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于晶圆制造技术领域，涉及一种光刻胶去胶液，其配方包括1‑30wt％醇类，0.1‑10wt％有机醇胺，0.1‑5wt％季铵碱，60‑90wt％极性非质子有机溶剂以及补足余量的去离子水。本发明的光刻胶去胶液不仅大大提高了去胶速度及去胶能力，而且降低了对金属、钝化层、氧化硅等各种底材的腐蚀；水溶性比较好，去胶过后容易清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶去胶液 | ||
【主权项】：
一种光刻胶去胶液，其特征在于配方包括：1‑30wt％醇类，0.1‑10wt％有机醇胺，0.1‑5wt％季铵碱，60‑90wt％极性非质子有机溶剂以及补足余量的去离子水。
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