[发明专利]一种光刻胶去胶液在审
申请号: | 201710753705.4 | 申请日: | 2017-08-29 |
公开(公告)号: | CN107577121A | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;张兵;朱坤 | 申请(专利权)人: | 昆山艾森半导体材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 胶去胶液 | ||
1.一种光刻胶去胶液,其特征在于配方包括:1-30wt%醇类,0.1-10wt%有机醇胺,0.1-5wt%季铵碱,60-90wt%极性非质子有机溶剂以及补足余量的去离子水。
2.根据权利要求1所述的光刻胶去胶液,其特征在于:所述极性非质子有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N-二甲基甲酰胺,N,N-二甲基乙酰胺,N-甲基吡咯烷酮,碳酸丙二酯、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮中的一种。
3.根据权利要求1所述的光刻胶去胶液,其特征在于:所述有机醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺的一种。
4.根据权利要求1所述的光刻胶去胶液,其特征在于:所述醇类为一元醇、二元醇或三元醇。
5.根据权利要求1所述的光刻胶去胶液,其特征在于:所述配方还包括0.01-2wt%的还原剂,所述还原剂为水合联氨、羟胺或羟胺盐中的一种。
6.根据权利要求1所述的光刻胶去胶液,其特征在于:所述配方还包括0.1-5wt%的阻蚀剂,所述阻蚀剂为唑类、有机胺、氨基酸、硫脲或有机硅酸盐中的一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山艾森半导体材料有限公司,未经昆山艾森半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710753705.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种粘箱机的导向机构
- 下一篇:一种粘箱机的滚压机构