[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710733225.1 申请日: 2017-08-24
公开(公告)号: CN107785291B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 南田纯也;小田奖;渡边尚 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B3/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种谋求更加省空间化的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置,并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置,并向处理单元的内部供给气体。另外,气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外,引进部配置于腔室的侧方,并且,在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
一种基板处理装置,其特征在于,该基板处理装置具备:多个处理单元,其层叠地配置,并在腔室内保持基板而利用处理液对所述基板进行液处理;以及气体供给部,其针对各所述处理单元设置,向该处理单元的内部供给气体,所述气体供给部包括:引进部,其将外部空气引进而使该外部空气清洁化;以及供气部,其将被所述引进部清洁化后的清洁空气向所述处理单元的内部供气,所述引进部配置于所述腔室的侧方,并且在层叠地配置的所述处理单元之间配置于所述腔室的同一侧面。
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