[发明专利]一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置有效
| 申请号： | 201710730999.9 | 申请日： | 2017-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN109426013B | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 李鹏;李坚;李志宾;冯孟;孙瑞雪;丁秀娟;赵帅 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置，该彩膜基板缺陷的分析方法，包括：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；获取修复设备从第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；对第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围。本发明中，综合检出缺陷和修复缺陷的数据，确定用于过滤彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，可以采用该过滤范围对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 缺陷 分析 方法 检测 修复 装置 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板缺陷的分析方法，其特征在于，包括：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。
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