[发明专利]一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置

权利要求书

1.一种彩膜基板缺陷的分析方法，其特征在于，包括：

获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；

获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；

对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围；

所述过滤参数包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值中的至少一个。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板缺陷的分析方法，其特征在于，所述过滤参数包括缺陷大小时，所述对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围的步骤包括：

根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板缺陷的分析方法，其特征在于，

所述确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布的步骤包括：

确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；

确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；

根据所述第一缺陷大小分区和对应的检出缺陷的数量，得到所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

对所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

确定所有修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围，将所述第二取值范围划分成多个第二缺陷大小分区，其中，每一第二缺陷大小分区的长度相同；

确定每一所述第二缺陷大小分区中的修复缺陷的数量；

根据所述第二缺陷大小分区和对应的修复缺陷的数量，得到所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

对所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

其中，所述根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围的步骤包括：

将所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，根据比较结果得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，并根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

4.据权利要求1-3任一项所述的彩膜基板缺陷的分析方法，其特征在于，所述过滤参数包括缺陷灰阶值和缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值时，所述对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围的步骤包括：

确定所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布；

根据所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布，将所有灰阶划分为多个灰阶分区；

确定所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及，确定所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布；

根据所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，得到所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值与所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值的差异数据，并根据所述差异数据确定不同灰阶分区的灰阶差值对应的过滤范围。