[发明专利]一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置

说明书

本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置，该彩膜基板缺陷的分析方法，包括：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；获取修复设备从第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；对第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围。本发明中，综合检出缺陷和修复缺陷的数据，确定用于过滤彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，可以采用该过滤范围对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间。

技术领域

本发明涉及彩膜基板缺陷检测技术领域，尤其涉及一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置。

背景技术

目前，在完成薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)彩膜基板的每一道工序后，通常都需要将彩膜基板送入自动光学检出设备(AOI)进行微观缺陷检测，经AOI检测出的具有微观缺陷的彩膜基板还需要送入修复(Repair)设备进行缺陷修复。AOI检出的微观缺陷是否全部修复直接影响彩膜基板的品质。在实际生产中，AOI检出的微观缺陷仅有30％左右需要修复，其余70％缺陷在修复工序中，要么不可见，要么不需要修复。但为了保证彩膜基板的品质，这70％的微观缺陷都需要在修复设备进行确认，造成时间浪费，严重影响产能。

为了降低确认不需要修复的缺陷的时间浪费，现有方法中，可以采用放宽AOI缺陷检出标准，或者在修复设备直接过滤部分缺陷，但是这两种过滤方式完全依靠工程师经验，过滤效果不可量化，AOI漏检风险及修复设备漏修风险均不可控，无法保证彩膜基板的品质。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置，综合检出缺陷和修复缺陷的数据，确定用于过滤彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，可以采用该过滤范围对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间。

为解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法，包括：

获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；

获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；

对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值中的至少一个。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小时，所述对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围的步骤包括：

根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布的步骤包括：

确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；

确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；