[发明专利]一组测试键布局结构与其布局图形对位失准的测量方法有效
| 申请号： | 201710684341.9 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN109388030B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 黄财煜 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一组测试键布局结构与其布局图形对位失准的测量方法。其一组测试键布局结构包含了多个测试键，每个测试键由测试电极、工作电压线、以及接地电压线所构成，其中该些测试电极的图形是由一第一曝光制作工艺图形与一第二曝光制作工艺图形相互重叠的部位所界定而成，且其位置依各个测试键顺序往一方向逐一偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 一组 测试 布局 结构 与其 图形 对位 失准 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一组测试键布局结构，包含多个测试键，其中每一该测试键包含：一条工作电压线；两条接地电压线，分别位于该工作电压线的两侧，其中该两条接地电压线与该工作电压线往第一方向等间隔排列；以及测试电极，位于该工作电压线以及该两条接地电压线上且与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者电连接；其中该测试电极的布局图形是由一第一曝光制作工艺布局图形与一第二曝光制作工艺布局图形相互重叠的部分所界定而成，且每一该测试键上的该测试电极的位置依各个该测试键顺序往该第一方向逐一偏移。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司，未经联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710684341.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种掩模台系统及光刻机
- 下一篇：掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法
