[发明专利]一组测试键布局结构与其布局图形对位失准的测量方法

权利要求书

1.一组测试键布局结构，包含多个测试键，其中每一该测试键包含：

一条工作电压线；

两条接地电压线，分别位于该工作电压线的两侧，其中该两条接地电压线与该工作电压线往第一方向等间隔排列；以及

测试电极，位于该工作电压线以及该两条接地电压线上且与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者电连接；

其中该测试电极的布局图形是由一第一曝光制作工艺布局图形与一第二曝光制作工艺布局图形相互重叠的部分所界定而成，且每一该测试键上的该测试电极的位置依各个该测试键顺序往该第一方向逐一偏移。

2.如权利要求1所述的一组测试键布局结构，其中该第一曝光制作工艺布局图形往该第一方向延伸且与该工作电压线以及该两条接地电压线重叠。

3.如权利要求1所述的一组测试键布局结构，其中每一该测试键上的第二曝光制作工艺布局图形的位置依各个该测试键顺序往该第一方向逐一偏移一预定距离且与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者重叠。

4.如权利要求3所述的一组测试键布局结构，其中该测试键布局结构中的该测试键的数目为2n-1，该n为2以上的正整数。

5.如权利要求4所述的一组测试键布局结构，其中偏移的该预定距离等于该工作电压线与该接地电压线的节距除以2n-2。

6.一组测试键布局结构，包含多个测试键，其中每一该测试键包含：

一条工作电压线；

一条接地电压线，位于该工作电压线的一侧并与该工作电压线往第一方向等间距排列；

第一测试电极，位于该工作电压线以及该接地电压线上且与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者电连接；以及

第二测试电极，位于该工作电压线以及该接地电压线上且与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者电连接；

其中该些测试电极的图形是由一第一曝光制作工艺布局图形与一第二曝光制作工艺布局图形相互重叠的部位所界定而成，且每一该测试键上的该第一测试电极的长度依各个该测试键顺序往该第一方向逐渐减少，每一该测试键上的该第二测试电极的长度依各个该测试键顺序往该第一方向逐渐增加。

7.如权利要求6所述的一组测试键布局结构，其中每一该测试键上的该第一曝光制作工艺布局图形包含一第一部位与一第二部位，其分别从该工作电压线与该接地电压线的外侧往该第一方向以及该第一方向的反方向延伸且与该工作电压线以及该接地电压线重叠。

8.如权利要求6所述的一组测试键布局结构，其中每一该测试键上的第二曝光制作工艺布局图形包含一第三部位与一第四部位，其位置依各个该测试键顺序往该第一方向逐一偏移一预定距离。

9.如权利要求8所述的一组测试键布局结构，其中该测试键布局结构中的该测试键的数目为2n-1，该n为2以上的正整数。

10.如权利要求9所述的一组测试键布局结构，其中偏移的该预定距离等于该工作电压线与该接地电压线的节距除以2(2n-2)。

11.一种布局图形对位失准的测量方法，包含：

提供一组测试键，其中每一该测试键包含一条工作电压线以及一条接地电压线位于该工作电压线的一侧且与该工作电压线往第一方向等间隔排列；

在每一该测试键上形成一测试电极以与该工作电压线以及该接地电压线中的至少一者电连接，其中该测试电极的布局图形是由一第一曝光制作工艺的布局图形与一第二曝光制作工艺的布局图形相互重叠的部分所界定而成，且每一该测试键上的该测试电极的位置依各个该测试键顺序往该第一方向逐一偏移；以及

测量每一该测试键的阻值并根据该测量的数据来判定该第一曝光制作工艺的布局图形与一第二曝光制作工艺的布局图形的对位偏移量。