[发明专利]一种高压发光二极管芯片及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710574349.X 申请日: 2017-07-14
公开(公告)号: CN107516701B 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 兰叶;顾小云;徐瑾;吴志浩;王江波;刘榕 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/14;H01L33/42;H01L25/075
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高压发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。芯片包括多个子芯片,每个子芯片包括N型半导体层、发光层、P型半导体层、电流阻挡层、透明导电层和P型电极线,P型半导体层上设有延伸至N型半导体层的第一凹槽,N型半导体上设有延伸至衬底的第二凹槽;一个P型半导体层上设有P型焊盘,一个N型半导体层上设有N型焊盘,其它N型半导体层上设有N型电极线;第二凹槽内设有第一电极线,在没有设置P型焊盘的子芯片中,P型电极线由第二电极线组成,在设有N型电极线的子芯片中,N型电极线由第三电极线组成,第二电极线和第三电极线分别第一电极线连接。本发明在略微改善芯片电压的情况下提高了芯片的发光亮度。
搜索关键词: 一种 高压 发光二极管 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种高压发光二极管芯片,所述高压发光二极管芯片包括多个子芯片,所述多个子芯片串联并按照串联的方向在衬底上排成一列;每个所述子芯片包括依次层叠在所述衬底上的N型半导体层、发光层、P型半导体层、电流阻挡层、透明导电层和P型电极线,所述P型半导体层上设有延伸至所述N型半导体层的第一凹槽,所述第一凹槽内的所述N型半导体上设有延伸至所述衬底的第二凹槽,所述第二凹槽位于相邻的两个所述子芯片之间;位于队列一端的所述P型半导体层上设有P型焊盘,所述P型焊盘与同一个所述子芯片的所述P型电极线连接,位于队列另一端的所述N型半导体层上设有N型焊盘,其它子芯片的所述N型半导体层上设有N型电极线,其它子芯片为所述多个子芯片中除设有所述N型焊盘的所述子芯片之外的子芯片;相邻的两个所述子芯片中,一个所述子芯片的N型电极线与另一个所述子芯片的P型电极线连接;其特征在于,所述第二凹槽内设有垂直于排列方向的第一电极线,在没有设置所述P型焊盘的所述子芯片中,所述P型电极线由平行于排列方向的第二电极线组成,在设有所述N型电极线的所述子芯片中,所述N型电极线由平行于排列方向的第三电极线组成,所述第二电极线和所述第三电极线分别与距离最近的所述第二凹槽内的所述第一电极线连接;设有所述P型焊盘的所述P型半导体层上还设有延伸至衬底的第三凹槽,所述第三凹槽内设有垂直于排列方向的第四电极线,设有所述P型焊盘的所述子芯片中,所述P型电极线由平行于排列方向的第五电极线组成,所述第四电极线与所述第五电极线连接。
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