[发明专利]抛光液管路系统和上下盘研磨机构有效
| 申请号： | 201710539411.1 | 申请日： | 2017-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN107097151B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 希尔维斯特·本杰明;孔满红;希尔维斯特·驹亮;希尔维斯特·昂睿 | 申请（专利权）人： | 大连桑姆泰克工业部件有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B57/02;B24B55/02;B24B37/11 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 116000 辽宁省大连市金州区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构，涉及抛光设备领域。该抛光液管路系统包括供液装置和抛光液储存器，抛光液储存器设置有环形的储液槽；供液装置通过输液管向储液槽内提供抛光液；抛光液储存器上还设置有与储液槽连通的出液孔，通过出液孔向待冷却装置输送抛光液。上下盘研磨机构包括如上的抛光液管路系统，还包括第一冷却机构及第二冷却机构，第一冷却机构包括多个层叠固定连接在一起的第一冷却盘；上下相邻的两个第一冷却盘之间具有冷却通道；最下层的第一冷却盘下端面用于固定上盘研磨体，其上开设有流孔，流孔与冷却通道相连通；出液孔与冷却通道连通。本发明解决了研磨机的抛光液输送不易控制易迸溅的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 管路 系统 下盘 研磨 机构 | ||
【主权项】：
一种抛光液管路系统，其特征在于，包括供液装置和抛光液储存器，所述抛光液储存器设置有环形的储液槽；所述供液装置通过输液管向所述储液槽内提供抛光液；所述抛光液储存器上还设置有与所述储液槽连通的出液孔，通过所述出液孔向待冷却装置输送抛光液。
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