[发明专利]抛光液管路系统和上下盘研磨机构有效

专利信息
申请号: 201710539411.1 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN107097151B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 希尔维斯特·本杰明;孔满红;希尔维斯特·驹亮;希尔维斯特·昂睿 申请(专利权)人: 大连桑姆泰克工业部件有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B57/02;B24B55/02;B24B37/11
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 魏彦
地址: 116000 辽宁省大连市金州区*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 抛光 管路 系统 下盘 研磨 机构
【说明书】:

发明提供了一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构,涉及抛光设备领域。该抛光液管路系统包括供液装置和抛光液储存器,抛光液储存器设置有环形的储液槽;供液装置通过输液管向储液槽内提供抛光液;抛光液储存器上还设置有与储液槽连通的出液孔,通过出液孔向待冷却装置输送抛光液。上下盘研磨机构包括如上的抛光液管路系统,还包括第一冷却机构及第二冷却机构,第一冷却机构包括多个层叠固定连接在一起的第一冷却盘;上下相邻的两个第一冷却盘之间具有冷却通道;最下层的第一冷却盘下端面用于固定上盘研磨体,其上开设有流孔,流孔与冷却通道相连通;出液孔与冷却通道连通。本发明解决了研磨机的抛光液输送不易控制易迸溅的技术问题。

技术领域

本发明涉及抛光设备技术领域,尤其是涉及一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构。

背景技术

现有的抛光机,其抛光液是直接的送到研磨盘之间,其流速和流量均不易控制,抛光液在抛光过程中流向飞溅不可控。

基于此,本发明提供了一种抛光液管路系统和上下盘研磨机构以解决上述的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抛光液管路系统,以解决现有技术中存在的研磨机的抛光液输送不易控制易迸溅的技术问题。

本发明的目的还在于提供一种上下盘研磨机构,用于解决上述技术问题。

基于上述第一目的,本发明提供了一种抛光液管路系统,包括供液装置和抛光液储存器,所述抛光液储存器设置有环形的储液槽;

所述供液装置通过输液管向所述储液槽内提供抛光液;

所述抛光液储存器上还设置有与所述储液槽连通的出液孔,通过所述出液孔向待冷却装置输送抛光液。

可选的,所述供液装置包括供液桶,所述供液桶通过输液管向所述储液槽内提供抛光液。

通过供液桶来提供抛光液,一是成本低,而是可以可持续的供给大量抛光液。

可选的,所述输液管上设置有恒压智能阀,用于调控抛光液的输送量和输送周期。

通过恒压智能阀,调节抛光液输送的速度、输液量和输送周期,实现周期性、定量输送抛光液,控制抛光液用量。

可选的,所述抛光液储存器呈圆环形。

圆环形的抛光液储存器便于加工。

可选的,沿所述抛光液储存器的周向均匀的设置有多个出液孔。

均匀的设置多个出液孔,有利于供给足够的抛光液,防止抛光液供给不足。

可选的,在所述储液槽内设置有调整刷,所述调整刷设置在所述输液管的端部,用于减缓抛光液的流速。

通过所述调整刷,减慢抛光液由输液管流出的速度,防止其喷溅,在抛光液储存器转动时,还可以搅匀抛光液。

基于上述第二目的,本发明提供了一种上下盘研磨机构,包括如上所述的抛光液管路系统,还包括第一冷却机构及第二冷却机构,所述第一冷却机构包括多个固定连接在一起的第一冷却盘,且多个所述第一冷却盘上下层叠设置;上下相邻的两个所述第一冷却盘之间具有冷却通道;多个所述第一冷却盘中,位于最下层的所述第一冷却盘的下端面用于固定上盘研磨体,且所述上盘研磨体上开设有流孔,所述流孔与所述冷却通道相连通;所述第二冷却机构包括喷嘴组件,所述喷嘴组件设于下盘研磨体的下方,用于向所述下盘研磨体喷射抛光液;

所述出液孔与所述冷却通道连通。

可选的,所述出液孔与所述冷却通道通过供液管连通。

可选的,上下相邻的两个所述第一冷却盘中,位于上方的所述第一冷却盘的下端面开设有第一半槽,位于下方的所述第一冷却盘的上端面开设有第二半槽;所述第一半槽与所述第二半槽相拼合形成所述冷却通道。

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