[发明专利]两种二核含钆磁共振成像对比剂及其制备与应用有效
| 申请号： | 201710464706.7 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107353258B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 孙宏顺;李玉龙;蒋蕻;陆新华;胡瑾;潘勇 | 申请（专利权）人： | 南京科技职业学院 |
| 主分类号： | C07D257/02 | 分类号： | C07D257/02;A61K49/10 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 陆薇薇 |
| 地址： | 211500 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明涉及磁共振成像领域，具体涉及两种二核含钆磁共振成像对比剂及其制备与应用。两种对比剂是分别在两个醛基基团上连接上两个DOTA‑NHNH2基团，再与顺磁性金属离子Gd3+螯合而得到的，其结构式如图所示。 |
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| 搜索关键词： | 两种二核含钆 磁共振 成像 对比 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
1.两种二核含钆磁共振成像对比剂，其结构式如下图：![]()
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