[发明专利]支撑组件、用于处理基底的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201710386331.7 申请日: 2017-05-26
公开(公告)号: CN107546095B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 林斗镐;河昌昇;李承培 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/683
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 曹桓
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 实施方案包括支撑组件、基底处理装置和基底处理方法。基底处理装置包括:内部具有处理空间的加工室;用于支撑在加工室内的基底的支撑组件;以及用于将处理气体供应到处理空间的气体供应组件,其中,所述支撑组件包括:金属材料的电极层,能够向该金属材料的电极层施加高频电力;接地线路,其一端连接到电极层并且另一端接地;以及设置在接地线路上的开关。
搜索关键词: 支撑 组件 用于 处理 基底 装置 方法
【主权项】:
1.一种基底处理装置,包括:内部具有处理空间的加工室;用于支撑在所述加工室内的基底的支撑组件;以及用于将处理气体供应到所述处理空间中的气体供应组件,其中,所述支撑组件包括:金属材料的电极层,能够向该金属材料的电极层施加高频电力;冷却路径;接地线路,包括连接到所述电极层的第一线路和接地的第二线路,其中所述第二线路被设置为多个,并且每个第二线路被设置成相互平行,其中在每个所述第二线路中,设置有具有预定电阻值的电阻元件,并且所述电阻元件的电阻值互不相同;以及设置在所述接地线路上的开关,其中所述开关被设置为将所述第二线路中的任何一个与所述第一线路电连接。
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