[发明专利]一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置有效
| 申请号： | 201710347068.0 | 申请日： | 2017-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN106932955B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 钟国强;陆相晚;袁慧芳;殷瑞;余娅 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 王刚 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置；所述方法包括：在基板上依次形成黑色矩阵、色阻层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；在所述色阻层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。本发明通过在黑色矩阵和色阻层形成通孔，并配合在衬底基板远离黑色矩阵一侧紫外线照射曝光的方式形成支撑柱。本发明的彩膜基板制作方法，不再使用光掩膜版，显著降低了成本；同时可以做到以面曝光，减少工艺制程时间，大幅提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括衬底基板，其特征在于，包括：在所述衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；在所述色阻层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。
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