[发明专利]一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括衬底基板，其特征在于，包括：

在所述衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；

在所述色阻层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。

2.一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括衬底基板，其特征在于，包括：

在所述衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层、保护层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；

在所述保护层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。

3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔的步骤，具体包括：

在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，通过构图工艺形成所述黑色矩阵，并在所述黑色矩阵内形成至少一个第一子通孔；

在所述黑色矩阵上涂覆光阻材料，通过构图工艺形成所述色阻层，并在所述色阻层内形成至少一个第二子通孔；所述至少一个第二子通孔与所述至少一个第一子通孔的位置一一对应以构成所述至少一个通孔。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，通过构图工艺形成所述黑色矩阵，并在所述黑色矩阵内形成至少一个第一子通孔的步骤，具体包括：

在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，使用具有至少一个第一开孔的第一掩膜板对所述黑色树脂层进行曝光、显影，形成所述黑色矩阵；所述黑色矩阵内与所述至少一个第一开孔对应的位置处形成所述至少一个第一子通孔。

5.根据权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述黑色矩阵上涂覆光阻材料，通过构图工艺形成所述色阻层，并在所述色阻层内形成至少一个第二子通孔的步骤，具体包括：

在所述黑色矩阵上涂覆光阻材料，使用具有至少一个第二开孔的第二掩膜板对所述光阻材料进行曝光、显影，形成所述色阻层；所述色阻层内与所述至少一个第二开孔对应的位置处形成所述至少一个第二子通孔。

6.根据权利要求1或2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述通孔包括：孔径较大的主通孔和孔径较小的辅通孔。

7.根据权利要求1或2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，还包括：在所述支撑柱的表面设置不透光材料层。

8.根据权利要求1或2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述紫外线的波长小于390纳米。

9.一种彩膜基板，其特征在于，使用如权利要求1至8任一所述的方法制造而成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求9所述的彩膜基板。