[发明专利]一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置

说明书

本发明公开了一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置；所述方法包括：在基板上依次形成黑色矩阵、色阻层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；在所述色阻层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。本发明通过在黑色矩阵和色阻层形成通孔，并配合在衬底基板远离黑色矩阵一侧紫外线照射曝光的方式形成支撑柱。本发明的彩膜基板制作方法，不再使用光掩膜版，显著降低了成本；同时可以做到以面曝光，减少工艺制程时间，大幅提高工作效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)是一种重要的平板显示装置。平板显示面板是TFT-LCD的核心组件，由TFT基板和彩膜(CF)基板组成。其中，采用IPS驱动方式的彩膜基板包括基板、背侧ITO导电膜、黑色矩阵(BM)、色阻层(RGB)、保护层(OC)以及支撑柱(PS)；采用TN驱动方式的彩膜基板包括：基板、黑色矩阵(BM)、色阻层(RGB)、面电极(ITO层，带有保护层)以及支撑柱(PS)。

无论是采用何种驱动模式的彩膜基板，其在制作时均需要进行BM、RGB、PS五道曝光工序，现有的PS制程工艺过程，同BM、RGB一致，光掩膜版为非常重要的一个组成部分。但是光掩膜版制作成本高，价格昂贵；且在渐近式曝光机中的使用过程中，由于基板与光掩膜版的间距很小，通常只有200-400um，存在着异物划伤光掩膜版膜面的风险；同时，采用光掩膜版的曝光工序操作繁琐，工作效率低下。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提出一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置，能够有效降低成本、提高工作效率。

基于上述目的本发明提供的一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；

在所述色阻层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。

在一些实施方式中，所述方法还包括：在所述衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层、保护层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔；

在所述保护层表面涂覆感光材料，使用紫外线照射所述衬底基板远离所述黑色矩阵一侧，使所述通孔对应位置的感光材料曝光固化并经过显影后形成支撑柱。

在一些实施方式中，所述在衬底基板上依次形成黑色矩阵、色阻层、保护层，并形成至少一个贯穿所述黑色矩阵和色阻层的通孔包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，通过构图工艺形成所述黑色矩阵，并在所述黑色矩阵内形成至少一个第一子通孔；

在所述黑色矩阵上涂覆光阻材料，通过构图工艺形成所述色阻层，并在所述色阻层内形成至少一个第二子通孔；所述至少一个第二子通孔与所述至少一个第一子通孔的位置一一对应以构成所述至少一个通孔；

在所述色阻层上形成所述保护层。

在一些实施方式中，所述在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，通过构图工艺形成所述黑色矩阵，并在所述黑色矩阵内形成至少一个第一子通孔包括：

在所述衬底基板上涂覆黑色树脂层，使用具有至少一个第一开孔的第一掩膜板对所述黑色树脂层进行曝光、显影，形成所述黑色矩阵；所述黑色矩阵内与所述至少一个第一开孔对应的位置处形成所述至少一个第一子通孔。