[发明专利]干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极在审
| 申请号： | 201710302181.7 | 申请日： | 2017-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN107170660A | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 温俊斌 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 亓赢 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请一种干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极，所述干蚀刻设备的电极，包括电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。藉以提升蚀刻气体流动方向的均匀分布情形。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 电极 | ||
【主权项】：
一种干蚀刻设备的电极，其特征在于，包括：电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。
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