[发明专利]干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极在审
| 申请号： | 201710302181.7 | 申请日： | 2017-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN107170660A | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 温俊斌 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 亓赢 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 电极 | ||
1.一种干蚀刻设备的电极，其特征在于，包括：
电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；
阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及
隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。
2.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述隔板以等间距、不等间距、局部等间距或无间隔的方式设置于所述阻挡环的外围。
3.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述多个穿孔以均匀、不均匀或局部均匀的方式设置于所述隔板。
4.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述多个穿孔的形状与大小是相同、相异或局部相同。
5.一种干蚀刻设备，其特征在于，包括：
腔室；
基台，设置于所述腔室的内部；
第一电极，设置于所述基台上，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；
阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；
隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔；
第二电极，设置于所述腔室的内部并与所述第一电极对向设置；
进气口，设置于所述腔室内侧，所述进气口的水平位置高于所述第一电极的水平位置；以及
抽气口，设置于所述腔室内侧，所述抽气口的水平位置低于所述第一电极的水平位置。
6.如权利要求5所述的干蚀刻设备，其特征在于，所述隔板以等间距、不等间距、局部等间距或无间隔的方式设置于所述阻挡环的外围。
7.如权利要求5所述的干蚀刻设备，其特征在于，所述多个穿孔以均匀、不均匀或局部均匀的方式设置于所述隔板。
8.如权利要求5所述的干蚀刻设备，其特征在于，所述多个穿孔的形状与大小是相同、相异或局部相同。
9.如权利要求5所述的干蚀刻设备，其特征在于，所述抽气口设置于所述腔室的底部，与所述隔板的开口对向设置。
10.如权利要求5所述的干蚀刻设备，其特征在于，所述抽气口设置于所述腔室的侧边，邻接所述隔板的开口。
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