[发明专利]显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法在审
| 申请号： | 201710259909.2 | 申请日： | 2017-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN107015444A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 吴利峰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 吴大建,何娇 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法，其中所述装置包括水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。本发明的水洗搬送方式与传统水洗方式不同，在水洗过程中，通过搬送轴上的托盘承载基板，托盘左右摇摆来使整个玻璃基板在一定角度随同摆动，玻璃基板与干净的纯水充分接触清洗玻璃基板上面的残留异物，从而异物清洗不充分的现象得到了有效的限制，同时这种处理方式还能够纯水的消耗，降低了水洗的工艺时间，提升了产线的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 工艺 中的 玻璃 水洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，包括：水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。
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