[发明专利]显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法

权利要求书

1.一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，包括：

水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；

托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及

摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。

2.根据权利要求1所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动机构包括圆形导轨以及伺服马达，所述伺服马达分别连接于所述圆形导轨的两端并用于驱动圆形导轨进行旋转，所述托盘平台的下方设有连接件，所述连接件能够与所述圆形导轨的圆周表面进行可拆卸地连接。

3.根据权利要求2所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述圆形导轨的下方位于摆动槽内，并且圆形导轨与摆动槽之间设有滚珠或滚柱。

4.根据权利要求3所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动槽的下方设有支撑架，所述支撑架的下方与蜗杆式驱动装置通过螺纹连接，所述蜗杆式驱动装置由另外的伺服马达驱动。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述伺服马达由PLC程序进行控制。

6.根据权利要求2至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述托盘平台的旋转范围在-60到60度之间。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述水洗喷嘴的排列方式包括呈矩阵式排列、呈圆环形排列、呈Z字形排列或呈米字形排列。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述水洗腔体内的玻璃基板的下方设置有水洗液回收装置。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述托盘平台与玻璃基板接触的表面采用聚四氟乙烯材料制成。

10.一种采用权利要求1至9中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置实施的水洗方法，其特征在于，具有以下步骤：

一、将待水洗的玻璃基板放置于托盘平台上，并且玻璃基板由托盘平台上进行限位；

二、将托盘平台连同玻璃基板运送至水洗腔体中；

三、开启水洗喷嘴，对玻璃基板进行喷淋，同时启动摆动机构，使托盘平台带动玻璃基板进行摆动，同时所述托盘平台在所述水洗腔体内做线性移动；

四、水洗完成后，将托盘平台连同玻璃基板运送出水洗腔体，并依次重复步骤一～步骤三。