[发明专利]显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及显影工艺的制程，特别涉及一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法。

背景技术

在薄膜晶体管-液晶显示器(thin film transistor-liquid crystal display，简称TFT-LCD)的彩色滤光片(CF)显影工艺中，未经过曝光后的有机光刻胶和显影液反应后被冲洗掉，曝光的光刻胶固化留下掩膜(mask)上工艺制程所需的图案，在显影之后的玻璃基板往往还需要进行清洗，以便去除显影后的药液残留和异物(particle)，如果清洗工艺出现问题的话，会直接导致各类微观和宏观缺陷的产生，影响整张玻璃基板的良品率。

随着高精细低温多晶硅技术(Low Temperature Poly-silicon，简称LTPS)等技术的发展，产品微观缺陷的控制要求越来越严格，影响微观缺陷的最重要的一个环节就是显影后的水洗工艺，水洗工艺去除异物能力较弱会直接造成微观缺陷大量增加，这样会无形增加修补产线的负荷。另外如果异物较大，也会造成产品直接判定为不良(NG)，造成不良损失(NG loss)的增加。

传统的显影设备水洗单元通常有两种方式，一种是水平式搬送方式，另一种是倾斜式搬送方式，这两种搬送方式的水洗后玻璃基板上异物及药液残留一般都是通过单一方向的水流冲洗方式来清洗玻璃基板，异物往往难以彻底去除，特别对于布局较紧凑的产线，水洗段在设计时都会压缩到较短，会更难洗净显影后的玻璃基板，特别对于倾斜式的水洗搬送方式，上下水流不均匀流动时容易造成局部的药液和异物聚集，更加制约产品良率的提升。

鉴于此，为了解决上述技术问题，本发明提出能够显著提高水洗效果的一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法，其通过设置摆动机构，使玻璃基板在水洗过程中进行摆动，同时在水洗腔体内进行运送，能够显著提高水洗效果及水洗效率。

为达上述目的，本发明提供一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其包括：

水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；

托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及

摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述摆动机构包括圆形导轨以及伺服马达，所述伺服马达分别连接于所述圆形导轨的两端并用于驱动圆形导轨进行旋转，所述托盘平台的下方设有连接件，所述连接件能够与所述圆形导轨的圆周表面进行可拆卸地连接。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述圆形导轨的下方位于摆动槽内，并且圆形导轨与摆动槽之间设有滚珠或滚柱。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述摆动槽的下方设有支撑架，所述支撑架的下方与蜗杆式驱动装置通过螺纹连接，所述蜗杆式驱动装置由另外的伺服马达驱动。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述伺服马达由PLC程序进行控制。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述托盘平台的旋转范围在-60到60度之间。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述水洗喷嘴的排列方式包括呈矩阵式排列、呈圆环形排列、呈Z字形排列或呈米字形排列。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述水洗腔体内的玻璃基板的下方设置有水洗液回收装置。

所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其中，所述托盘平台与玻璃基板接触的表面采用聚四氟乙烯材料制成。

本发明还提供一种采用上述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置实施的水洗方法，其具有以下步骤：

一、将待水洗的玻璃基板放置于托盘平台上，并且玻璃基板由托盘平台上进行限位；

二、将托盘平台连同玻璃基板运送至水洗腔体中；

三、开启水洗喷嘴，对玻璃基板进行喷淋，同时启动摆动机构，使托盘平台带动玻璃基板进行摆动，同时所述托盘平台在所述水洗腔体内做线性移动；

四、水洗完成后，将托盘平台连同玻璃基板运送出水洗腔体，并依次重复步骤一～步骤三。