[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板和显示装置

摘要

本发明公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板和显示装置，用以减少显示装置多个亮点和暗点的发生。制备方法包括提供一衬底基板，在衬底基板上形成有源层，在有源层朝向衬底基板或背离衬底基板的一侧形成栅极层，在有源层背离衬底基板的一侧形成层间介质层，沿远离衬底基板方向形成的层间介质层包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层，第一膜层和第三膜层包括氧化硅层，第二膜层和第四膜层包括氮化硅层；形成位于层间介质层上的光刻胶层；形成从层间介质层延伸至有源层的过孔；形成位于层间介质层背离衬底基板一侧的源、漏极层，在形成源、漏极层的同时去除层间介质层中未被源、漏极层覆盖的部分内的第四膜层。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，包括：提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成有源层，在所述有源层朝向所述衬底基板或背离所述衬底基板的一侧形成栅极层，其特征在于，还包括：在所述有源层背离所述衬底基板的一侧形成层间介质层，其中：沿远离所述衬底基板方向、形成的所述层间介质层包括：依次层叠设置的第一膜层、第二膜层、第三膜层以及第四膜层，其中所述第一膜层和所述第三膜层均包括氧化硅层，所述第二膜层和所述第四膜层均包括氮化硅层；形成位于所述层间介质层上的光刻胶层；形成从所述层间介质层延伸至所述有源层的过孔；形成位于所述层间介质层背离所述衬底基板一侧的源、漏极层，其中在形成所述源、漏极层的同时去除所述层间介质层中未被所述源、漏极层覆盖的部分内的第四膜层。