[发明专利]成膜装置及成膜方法有效
| 申请号： | 201710229298.7 | 申请日： | 2017-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN108690954B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 长江亦周;宫内充祐;大泷芳幸;重田勇辉;佐守真悟 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 周达;周子轶 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种成膜装置及成膜方法，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：真空腔室；排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；成膜机构，其设置于所述真空腔室内；导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构的成膜过程中向所述真空腔室内导入含羟基气体。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其用于形成薄膜，其特征在于，所述成膜装置包括：真空腔室；排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；成膜机构，其设置于所述真空腔室内；导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构的成膜过程中向所述真空腔室内导入含羟基气体。
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